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半導體、顯示面板擴散、刻蝕、CVD 工序產(chǎn)生CF?、NF?等PFCs 全氟化合物，性質(zhì)穩(wěn)定、傳統(tǒng)工藝難降解。天得一等離子水洗設備（Plasma Wet Scrubber），采用等離子分解 + 濕法洗滌兩段式工藝，通過 DBD / 電弧放電打斷 C?F 鍵，徹底降解污染物，再經(jīng)洗滌塔深度凈化，反應溫度 1500?3000℃，凈化效率 99.9% 以上，可兼容電熱水洗處理的各類廢氣。

1. 安全穩(wěn)定：采用自動化控制，進行溫度、壓力、流量、液位等監(jiān)測，聯(lián)動擴撒、調(diào)溫、降溫、報警、停機等多重安全聯(lián)鎖，確保全程受控；
2. 高效凈化：高能電子轟擊結合自由基氧化，徹底破壞分子結構，凈化效率可高達99.9%以上；
3. 適用性：可處理電熱水洗設備無法有效處理的極高穩(wěn)定性氣體（如PFCs）；
4. 耐腐蝕：采用強化防腐設計，具有優(yōu)良的耐腐蝕性能；
5. 智控孿生賦能：融合數(shù)字孿生與集中智制優(yōu)勢，通過感知矩陣、多維交互、場景化智控等技術，實現(xiàn)設備全生命周期深度賦能。

適用于半導體與顯示面板制造的擴散、刻蝕、化學氣相沉積等核心工序中，產(chǎn)生CF?、NF?等全氟化合物（PFCs）廢氣治理。